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도서명 CMP 웨이퍼 연마
저자 수리야데바라 바부
출판사 (주씨아이알
출판일 2021-04-12
정가 38,000원
ISBN 9791156109471
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CHAPTER 1 유전체에 대한 화학-기계적 평탄화 가공의 물리학적 메커니즘

CHAPTER 2 22[nm] 후공정과 그 이후를 준비하는 구리소재에 대한 화학-기계적 평탄화 가공

CHAPTER 3 금속박막에 대한 화학-기계적 평탄화 가공을 위한 전기화학적 기법과 적용사례

CHAPTER 4 초저유전체에 대한 화학-기계적 평탄화 가공

CHAPTER 5 고이동도 채널소재에 대한 화학-기계적 평탄화 가공

CHAPTER 6 화학-기계적 평탄화 가공에 대한 다중스케일 모델링

CHAPTER 7 탄화규소 박막의 연마가공

CHAPTER 8 질화갈륨에 대한 화학-기계적 평탄화 가공의 물리화학적 메커니즘

CHAPTER 9 연마제를 사용하지 않거나 극소량만을 사용하는 화학-기계적 연마가공

CHAPTER 10 평탄화 공정의 환경적 측면

CHAPTER 11 화학-기계적 평탄화 가공용 슬러리의 특성과 제조방법

CHAPTER 12 화학-기계적 평탄화 가공의 품질을 평가하기 위한 화학계측방법

CHAPTER 13 다이아몬드 디스크를 사용한 패드 컨디셔닝

CHAPTER 14 산화물에 대한 화학-기계적 연마가공 중 FTIR 분광법을 사용한 표면분석

CHAPTER 15 새로운 화학-기계적 평탄화 가공용 슬러리 공급 시스템

CHAPTER 16 화학-기계적 연마가공의 제거율 균일성과 캐리어인자의 역할

CHAPTER 17 결함분석, 결함완화 및 저감

CHAPTER 18 무어의 법칙을 초월하는 디바이스에 대한 화학-기계적 평탄화 가공의 적용

CHAPTER 19 상변화 소재에 대한 화학-기계적 평탄화 가공
이 책은 화학-기계적 평탄화(CMP 가공 분야의 현업에 종사하는 엔지니어들이 화학과 기계적인 관점뿐만 아니라 소재나 전기적인 관점에서 연마가공의 메커니즘을 이해할 수 있는 소중한 기회를 제공해준다.
현업에서 발생하는 다양한 문제들을 현상적인 측면에서만 다루지 않고 그 배후에 존재하는 물리적-화학적인 메커니즘을 이해하고, 체계적으로 해결방안을 찾아내는 과정에서 이 책이 소중한 자료로 활용될 수 있을 것이다.